快科技6月9日音讯，杭州璞璘科技（Prinano）近来经过官方微信大众号宣告，与深圳力策科学技能合作选用自主研制的真空气压式纳米压印计划，完结8英寸光芯片可规划化量产验证。

  据报道，该技能彻底绕开传统深紫外（DUV）光刻道路，将光芯片制作本钱紧缩至DUV计划的十分之一，为受ASML光刻机出口约束的我国芯片工业带来了新的曙光。

  此次量产打破的中心是璞璘科技自主研制的PL-AS真空气压式晶圆级纳米压印光刻设备，合作定制化双层压印胶资料体系与中心工艺，整个出产的悉数进程无需运用ASML的DUV光刻机。

  不同于职业干流的辊压和佳能喷墨步进式道路，该设备是选用“空气垫”式面触摸压印原理，能将晶圆整面压力均匀性差错控制在0.5%以内，剩余层厚度误差小于2nm，一起支撑硬质与柔性模板，线nm以下。

  比较辊压的线触摸形式，气压式彻底处理了压印均匀性缺乏的问题；而比照佳能的步进式工艺，其全域一次压印的功率更适合光芯片的大规划出产。

  更要害的是，纳米压印技能完结了跨标准微纳结构的一次成型。传统DUV光刻制作光芯片时，面临从几十纳米到数微米的杂乱结构需求多道工艺和多台设备合作，而纳米压印只需将一切结构制作在同一片模板上，一次压印就可以完结复刻，大幅度缩短了出产周期并降低了良率损耗。

  现在，该技能已在多个光芯片范畴完结量产验证，这些光芯片大范围的使用于光通信、传感和激光雷达范畴。

  不过，职业关于纳米压印技能的实践价值仍存在广泛争议。《南华早报》指出，该技能在量产规划、良率以及非光子芯片范畴的适用性没有得到充沛验证。

  研究机构SemiAnalysis表明，虽然纳米压印设备自身本钱更低，但其实践本钱优势取决于产能、模板出产、缺点率和工艺集成水平，短期内难以代替DUV和EUV在先进逻辑芯片制作中的主导地位。璞璘科技也未发表详细的出产良率、出货量、客户订单及独立验证数据，其商业化规划仍有待进一步调查。

  此次打破也反映出在美国主导的出口控制下，我国科技公司探究差异化技能道路的全体趋势。从华为近期提出的韬（τ）规律将开展重心从晶体管微缩转向体系级数据传输、先进封装和三维集成，到各类设备草创企业在细分芯片范畴寻觅有用的制作代替计划，国产半导体工业正在经过多条途径打破技能封闭。

  成立于2017年的璞璘科技，创始人葛海雄师从纳米压印技能前驱、美国工程院院士周郁。2025年8月，该公司已交给我国首台半导体级纳米压印光刻设备。此次8英寸光芯片量产打破，标志着国产纳米压印技能从实验室走向工业化使用的要害一步。